摘要：:原神,原神刻晴兵器有哪些關于技術描寫①有個特性：在釋放E技術時迅速瞬移已往，可以在打出斬擊傷害的同時接上普通進攻，并可以對體型小的怪物舉辦不中斷的僵直連擊，不然
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關于技術描寫①有個特性：在釋放E技術時迅速瞬移已往，可以在打出斬擊傷害的同時接上普通進攻，并可以對體型小的怪物舉辦不中斷的僵直連擊，不然需要離地懸停0.5秒閣下才氣舉辦進攻。
假如解鎖了抵天雷罰天賦，也就意味著可以再舉辦長達5秒的雷元素進攻，E技術自己冷卻時間為7.5秒，再加上迅速釋放技術所耗損的時間，也就是說真空期只有2.5秒閣下，顛末測試：在5秒的時間里，可以打出兩組普攻可能一組普攻+三組重擊又可能直接四組重擊。下圖為四組重擊的結(jié)果演示。
那么大抵的輸脫手法就有了模子，因為組合方案較量多，這里就不再演示，在實戰(zhàn)中按照本身輸出情況隨機應變，選取傷害最大化的一種亦或手感最好的一種皆可。 別的，E技術還擁有自動跟蹤的特性，當刻晴四周有仇人時，雷楔將以刻晴為中心自動落點至仇人位置，見下圖。
關于元素戰(zhàn)技的活用 由于元素戰(zhàn)技擁有可以瞬移至標志處的特性，使得此技術在日常摸索與戰(zhàn)斗中的應用有了無限多種的大概性，接下來就從日常摸索中來舉出幾個活用較頻繁的例子。
1、通過E技術瞬移可以直接翻上稍矮的山、以及撿神瞳、撿寶箱等，在有些間隔很近但卻要在修建之間從頭攀爬移動時，E技術可以做到在兩點之間直接移動。不外要留意：E技術仰角有限，假如離山體較近，那么釋放出的結(jié)果會很不抱負，E技術的瞬移本質(zhì)上屬于直線移動，假如腳色與雷楔位置之間有障礙物，那么將無法達到雷楔位置，如下圖。
2、將雷楔釋放在空中然后對地下墜造成雷元素攻擊傷害，但因下墜有必然的時間，所以下墜后的抵天雷罰輸出時間不敷5秒。
3、E技術可對遺跡捍衛(wèi)等焦點造成傷害，從而癱瘓敵方(E技術的釋放需要必然的精準度)。
元素發(fā)作
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